对于高振东这话，俞允成是承认的，看现在部里的态度，说得夸张点就是，他哪怕就写个名字和金额上去，部里批准的概率也很大，就别说没有具体过程这种小事了，一句保密需要就解决了问题。

主要是人家能出货啊，这比什么东西都硬，说服力都强。远的不说，就不久前单晶炉加硅单晶这一套成果，部里就吃得饱饱的。

对于高振东当甩手掌柜，让他来写材料，俞允成也是求之不得，这可是一手资料，不到那份儿上的人，想接手？美得你。看都不给看一眼的好吧。

俞允成美滋滋的跑去做苦力的过程中，高振东这里也迎来了又一批客人。

——1274厂的吕厂长和鲁总工。

这两位可是有点儿急不可耐，单晶炉刚搞完，他们就已经迫不及待的击败了在一旁虎视眈眈的1218厂，将在高振东带领下开展半导体工艺研究的活儿揽了下来。

这一次，就是过来将前期的厂内资源调研工作结果通报一下，以准备下一步工作的。

高振东热情的接待了两人，仔细的研究了他们带来的1274厂的现状。

作为大毛子直接支援的那一批厂子之一，1274厂无疑代表了国内半导体工艺的最高水平，从他们的情况，就能很明确的知道国内的半导体制造工艺。

看完了1274厂的情况，高振东有一点抠脑袋，这厂子是真的是彻彻底底生产晶体三极管的，而且是那种比较原始的生产工艺。

这么说吧，一块儿几毫米见方的硅片，在日后可以在上面做出一个CPU来，可是在这时候的大多数半导体厂里，只够做一个三极管，甚至半个。

与日后掩膜、光刻、掺杂、金属沉积等等一系列操作不同，这时候的国内，三极管是师从大毛子，三极管不是在一片硅片或者锗片上经过多次掺杂得到PNP结或者NPN结，反而看起来像是把几块不同掺杂的原料叠在一起，得到PNP或者NPN结。

虽说这种工艺日后也在用，不过如果是想用在集成电路上，那明显就是想多了，虽然58年的第一块集成电路也没好到哪里去，可是至少没有玩儿这种简单粗暴的叠叠乐，虽然长得丑，但还是老实使用的平面晶体管的工艺，毕竟集成电路的标志之一，就是这种工艺了。

看来要搞的事情，还不少啊。

这就回到了前世在网上互喷的时候，最常见的话题——光刻机。

光刻机是一定要搞的，这是其中最重要的一個工序，没有这个，其他的CVD、PVD、气体扩散、蒸镀、掺杂这些技术都会失去意义。

从原理上来说就是，通过光刻技术，可以实现在指定区域进行掺杂、蚀刻、导线连接、形成工作结构等操作。

严格说来，说“光刻机在硅片上刻出电路”是不对的。光刻本身是刻不出PN结，也形不成电路的，光刻只是为PN结、导线连接、内部元件的按要求产生，提供了一个条件，它刻出的，是电路的雏形，以及提供保护。

就有点点类似我们在对工件喷漆的时候，会用报纸把工件上不需要喷漆的部分保护起来，仅此而已。

但是没有这个保护，结果就好像在没有盖报纸的工件上喷漆，控制得再好，也会喷到不需要的地方去，这工件就废了，更别说在硅片这小的螺蛳壳里做道场了。

不过光刻机这玩意，高振东现在根本就不去想什么紫外、极紫外光刻，浸润光刻，多次曝光这些鸟玩意，整个技术环境根本支撑不了的。

他要搞的，就是用自己亲手做出来的现成的东西——激光光刻，同时光刻制程，他根本就不去想多少纳米，连微米级别都嫌高。

对他来说，甚至只要亚毫米级别的就好，也就是100微米到10微米这个级别，能在1平方厘米的面积上，放下十来个乃至几十个晶体管就行。

可别小看这个密度，已经能做很多事情了，尤其是对于DJS-60D乃至他规划中的二代高性能计算机来说。

而且搞数字电路的都知道，有了合适的数字电路芯片，哪怕没有计算机，也能玩儿出很多花活，用简单的代价，实现很多控制需求了。

对于这个制程精度，随便什么激光，其波长都是足够小了，功率也比较容易实现。

至于极紫外光刻机，那是由于光刻制程小到一定程度的需求，而且功率很难做大，这时候想那玩意完全是做梦呢。

至于亚毫米精度的光刻能不能实现，高振东还是有一定信心的，大不了请相关单位手搓几套光路系统，光源自己上就行，他可不只会红宝石激光器。

作为前世的资深军迷，他心里门儿清，东北光学所可不是吃干饭的，那是相当牛逼的一个存在。

而且原本来说，国内的集成电路其实起步并不晚，与普通人直觉反应相悖的是，我们的第一块集成电路，诞生于1965年，实用化的半自动接近式光刻机，诞生于1977年，这是一台分辨率可达2.5~5微米的光刻机，而仿制成功8080CPU，是在1979年，比汉斯猫还早一年。